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國內(nèi)集成電路ALD設備進駐上海集成電路研發(fā)中心
近日,由北方華創(chuàng)下屬子公司北方華創(chuàng)微電子自主研發(fā)的國內(nèi)首臺12英寸原子層沉積(AtomicLayer Deposition,ALD)設備進駐上海集成電路研發(fā)中心。
物理氣相沉積 研發(fā)中心
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