實(shí)現(xiàn)物聯(lián)網(wǎng)的關(guān)鍵 ReRAM的現(xiàn)狀及未來解讀

責(zé)任編輯:editor005

作者:劉燚

2017-04-05 13:55:25

摘自:半導(dǎo)體行業(yè)觀察

現(xiàn)階段業(yè)界也在尋找可大幅降低物聯(lián)網(wǎng)設(shè)備能源消耗的辦法,為此業(yè)界發(fā)現(xiàn)物聯(lián)網(wǎng)芯片中內(nèi)嵌“可變電阻式內(nèi)存”(ReRAM),有助達(dá)成此一節(jié)能目標(biāo)。

 物聯(lián)網(wǎng)應(yīng)用若要全面普及,勢(shì)必需要在人類生活環(huán)境中部署大規(guī)模傳感器等基礎(chǔ)設(shè)施,這些設(shè)備若能擁有愈長的電池續(xù)航力當(dāng)屬愈好,一來可節(jié)省維護(hù)成本、二來有助提高物聯(lián)網(wǎng)基礎(chǔ)設(shè)施可持續(xù)性。

現(xiàn)階段業(yè)界也在尋找可大幅降低物聯(lián)網(wǎng)設(shè)備能源消耗的辦法,為此業(yè)界發(fā)現(xiàn)物聯(lián)網(wǎng)芯片中內(nèi)嵌“可變電阻式內(nèi)存”(ReRAM),有助達(dá)成此一節(jié)能目標(biāo)。

據(jù)Embedded Computing Design網(wǎng)站報(bào)導(dǎo),若要達(dá)到物聯(lián)網(wǎng)應(yīng)用的能源采用要求,需要導(dǎo)入各式節(jié)能策略,即使多數(shù)物聯(lián)網(wǎng)設(shè)備設(shè)計(jì)成可休眠或待命的模式,但再怎么說物聯(lián)網(wǎng)設(shè)備仍有一定比例時(shí)間在運(yùn)作,因此如何節(jié)能仍是一大技術(shù)重點(diǎn)。

其中嵌入式內(nèi)存在協(xié)助物聯(lián)網(wǎng)芯片節(jié)能上便扮演要角,因具備低功耗及低電壓操作、單體IC、快速讀寫時(shí)間、非揮發(fā)性以及高容量等有助提升物聯(lián)網(wǎng)設(shè)備能源效率的優(yōu)勢(shì)。

實(shí)現(xiàn)物聯(lián)網(wǎng)的關(guān)鍵 ReRAM的現(xiàn)狀及未來解讀

  什么是ReRAM

ReRAM不同于傳統(tǒng)Flash內(nèi)存技術(shù),ReRAM內(nèi)存是以字節(jié)進(jìn)行尋址,能以小型頁(page)進(jìn)行建構(gòu),因此ReRAM能夠獨(dú)立抹除及再寫入,能夠大幅簡化儲(chǔ)存控制器的復(fù)雜性。

ReRAM儲(chǔ)存單元通常在兩個(gè)金屬電極之間部署一個(gè)切換材料,當(dāng)施加電壓時(shí)該材料能夠顯現(xiàn)出不同的阻力特性,該切換材料及內(nèi)存儲(chǔ)存單元如何進(jìn)行組構(gòu),就成為決定ReRAM節(jié)電性的關(guān)鍵。該切換材料為燈絲奈米粒子(Filamentary nanoparticle),以及不具導(dǎo)電性的非晶硅(a-Si)這類簡易CMOS兼容性材料。

例如Crossbar ReRAM技術(shù),是基于采用對(duì)CMOS友善的材料及標(biāo)準(zhǔn)CMOS制程的簡易兩個(gè)終端設(shè)備結(jié)構(gòu)所開發(fā),能夠輕易與CMOS邏輯電路進(jìn)行整合,且能夠以現(xiàn)有CMOS廠房生產(chǎn),無需采特殊的設(shè)備或材料。

借助低溫BEOL制程,可將多層ReRAM數(shù)組整合至CMOS晶圓之上,用以打造系統(tǒng)單芯片(SoC)及其他擁有大量3D單片內(nèi)嵌式RRAM儲(chǔ)存的芯片產(chǎn)品。因此相較于傳統(tǒng)Flash內(nèi)存,ReRAM具備節(jié)能、延長壽命及讀寫延遲等顯著優(yōu)勢(shì)。

在程序化效能及功耗表現(xiàn)上,ReRAM每儲(chǔ)存單位程序化能耗為64皮焦耳(pJ),比傳統(tǒng)NAND Flash表現(xiàn)好上2成以上。另外更低且更可預(yù)測(cè)的讀寫延遲,也有助借助縮短編碼獲取或數(shù)據(jù)串流的時(shí)間,達(dá)到減少能耗的效果。

在系統(tǒng)層次,若能在SoC中內(nèi)建儲(chǔ)存內(nèi)存,也有助透過減少或省去對(duì)外部內(nèi)存的近用,在更無需I/O操作下達(dá)到節(jié)能功效。值得注意的是,ReRAM技術(shù)是采用一項(xiàng)基于電場的切換機(jī)制,因此可創(chuàng)造高度可靠性及在較廣泛不同溫度情況下的高穩(wěn)定表現(xiàn)。

基于ReRAM能夠內(nèi)建于SoC、邏輯芯片、模擬芯片及射頻(RF)芯片等各類可能的物聯(lián)網(wǎng)芯片技術(shù)領(lǐng)域,將有助延長物聯(lián)網(wǎng)芯片續(xù)航力達(dá)數(shù)年都無需更換電池或整顆芯片的程度。除了節(jié)能外,ReRAM也具備制程及成本效益、高穩(wěn)定及可靠性,以及單片IC整合至單芯片物聯(lián)網(wǎng)系統(tǒng)解決方案的效益及技術(shù)優(yōu)勢(shì)。

ReRAM目前發(fā)展情況

以紫光為代表的中國公司正在斥資數(shù)百億美元投入NAND、DRAM等等存儲(chǔ)芯片市場,2018年將推出國產(chǎn)3D NAND閃存,意圖實(shí)現(xiàn)國家要求的芯片自給率要求。不過在NAND領(lǐng)域,中國公司研發(fā)、生產(chǎn)已經(jīng)晚了20多年,更大的希望還是在在新一代存儲(chǔ)技術(shù)上。

2016年3月,Crossbar公司宣布與中芯國際達(dá)成合作,發(fā)力中國市場。其中,中芯國際將采用自家的40nm CMOS試產(chǎn)ReRAM芯片。2017年1月,兩者合作的結(jié)晶終于誕生,中芯國際正式出樣40nm工藝的ReRAM芯片。

另外,按計(jì)劃更先進(jìn)的28nm工藝ReRAM芯片也將在2017年上半年問世。

 

ReRAM戰(zhàn)場的另一家技術(shù)大牛是Nantero公司,他們的技術(shù)基于碳納米層矩陣。其已經(jīng)將技術(shù)授權(quán)給無晶圓廠芯片公司富士通(Fujitsu)半導(dǎo)體,并且交給代工廠Mie Fujitsu半導(dǎo)體用55nm和40nm工藝跟進(jìn)。

此外,致力于商業(yè)化ReRAM的企業(yè)包括東芝、Elpida、索尼、松下、美光、海力士、富士通、Crossbar等。

東芝憑借其類似于今天1.5萬轉(zhuǎn)硬盤的固態(tài)硬盤,開始涉足這些高端市場。這可能不是一個(gè)巨大的市場,但是其高利潤率還是值得一試的。

其他廠商,包括松下、美光和三星,也正在致力于ReRAM的研發(fā)。

其實(shí),美光早在2007年就提出了這種技術(shù),此后幾乎每年都會(huì)透露一些進(jìn)展,但就是距離量產(chǎn)遙遙無期。美光是和索尼聯(lián)合研發(fā)ReRAM的,其基本原理和Crossbar RRAM有些類似,同樣是非易失性存儲(chǔ),但是更強(qiáng)調(diào)電阻可變,同時(shí)為了區(qū)分,縮寫也有所不同。

ReRAM的未來

在可預(yù)見的未來,NAND閃存將保留在成本和密度上的優(yōu)勢(shì),這意味著它仍將在未來幾十年存活下去。那么ReRAM在存儲(chǔ)應(yīng)用中要如何定位呢?

數(shù)據(jù)完整性:關(guān)鍵任務(wù)應(yīng)用更喜歡ReRAM,而且關(guān)鍵是買得起;

性能:固態(tài)硬盤這種高速存儲(chǔ)介質(zhì)消除了復(fù)雜性并提高了性能;

移動(dòng)性:網(wǎng)絡(luò)寬帶和內(nèi)存容量之間進(jìn)行著一場永無止境的拉鋸戰(zhàn),在這種情況下,消費(fèi)者可能會(huì)喜歡上他們移動(dòng)設(shè)備的大容量存儲(chǔ)。如果是這樣, ReRAM節(jié)能的優(yōu)點(diǎn)將在高端產(chǎn)品有所體現(xiàn)。

有鑒于未來幾年全球物聯(lián)網(wǎng)應(yīng)用可望持續(xù)蓬勃起飛,若未來ReRAM技術(shù)成為全球物聯(lián)網(wǎng)芯片主流內(nèi)存解決方案,將有助除去運(yùn)算與數(shù)據(jù)儲(chǔ)存之間的界線,有利于以數(shù)據(jù)為中心的運(yùn)算架構(gòu)發(fā)展。

鏈接已復(fù)制,快去分享吧

企業(yè)網(wǎng)版權(quán)所有?2010-2024 京ICP備09108050號(hào)-6京公網(wǎng)安備 11010502049343號(hào)